Metalli pesanti in prodotti farmaceutici: esposizione giornaliera e J-Value
È ormai ben nota l’introduzione di una serie di novità per la determinazione di metalli pesanti all’interno della farmacopea statunitense.
Nei nuovi USP 232 e USP 233 e ICH Q3D sono state introdotte alcune modifiche e miglioramenti, creando anche dei gruppi di metalli con caratteristiche di monitoraggio differenti.
Tra i parametri rimasti inviariati vi sono l’esposizione massima giornaliera (Permitted Daily Exposure – PDE) e il valore di J-Value, tramite il quale risulta più evidente la concentrazione limite da raggiungere ed è quindi la tecnica più idonea per le determinazioni.
J-Value
Il J-Value è definito come la concentrazione PDE dell’elemento di interesse dopo la preparazione del campione e riferito al range di lavoro strumentale.
La formula riportata nella USP <233>:
Ad esempio per il Cd:
PDE Cd = 5 μg/giorno
Max daily dose = 10 g
Preparativa = 0.2 g a 50 ml volume finale (diluizione 250x)
Secondo questo calcolo, la Farmacopea stabilisce che la calibrazione strumentale successiva dovrà avere uno standard a 0.5J e uno a 1.5J, equivalenti per il Cd ad 1 μg/L e 3 μg/L. In questo modo, è possibile costruire una tabella con i range di calibrazione in base ai valori di J calcolati. Questi valori sono riportati in Tabella1.
Alcuni metalli hanno limiti di rilevabilità particolarmente bassi, in quanto definiti potenzialmente tossici nella USP <232>. Fanno parte di questo gruppo As, Cd, Hg e Pb. Per tale ragione e per assicurare PDE e dosi giornaliere sempre inferiori, i laboratori di controllo dei prodotti farmaceutici devono disporre di strumenti con prestazioni sempre più elevate in termini di sensibilità.
Per questo motivo, l’ICP MS è la tecnica analitica necessaria in questi laboratori.
Plasma Quant MS
Il Plasma Quant MS di Analytik Jena è ideale per la determinazione di impurezze in tracce nei prodotti farmaceutici. È in grado di soddisfare facilmente i valori di riferimento e i criteri di prestazione definiti nelle linee guida ICH e USP paragrafo <232>.
Plasma Quant MS è caratterizzato da tecnologie uniche e brevettate, che riducono significativamente i costi di esercizio e permettono così di avere una maggiore facilità d’uso senza compromettere le prestazioni. Ad esempio, l’Eco Plasma per il funzionamento dello strumento in routine con un flusso di argon totale inferiore a 10 Litri/minuto e senza compromettere la robustezza del plasma o la sensibilità analitica. Un altro esempio di brevetti associati a Plasma Quant MS è la Cella di Collisione Integrata (iCRC), un sistema di gestione delle interferenze potente, semplice da usare e che rimuove le interferenze spettroscopiche su elementi come Cr, As, Se, V e Cu.
I limiti di rilevabilità possibili su questo ICP MS sono stati determinati con metodo (MDL) per ciascun isotopo e riportati nella Tabella 2, confrontandoli con un possibile J-Value.
I valori sono misurati in condizioni di laboratorio di routine e sono molto inferiori rispetto ai limiti di riferimento di ciascun elemento. L’MDL si basa sulla misura di 12 soluzioni in bianco misurate in due giorni non consecutivi ed è definito come 3 volte la deviazione standard delle 12 misurazioni del bianco.
Dai dati riportati in tabella si evidenzia come l’operatore abbia ampi margini di sensibilità per tutti i metalli della Farmacopea, con almeno un fattore 100x tra il J-value e MDL ottenibile. Plasma Quant MS di Analytik Jena dimostra così di essere un’ottima scelta per sensibilità, flessibilità e riduzione dei costi di esercizio.
